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第二百九十一章 电子计算机(第三更)
这也是为什么芯片是21世纪的核心技术的原因。

    刚才崔潇潇绘制的图纸,已经是放大几万倍之后的结果了,按照比例进行压缩,最后成型的一颗cpu,在崔潇潇设计的结果里写得非常清楚——

    2x2cm。

    也许她过高地估计了卫宫那个时代的制造工艺,又或者是她小学课本里本身教授的就是2020年以后的东西,这个尺寸比最初的要小了非常非常多。

    制作cpu,首先要进行晶圆的制作,提纯硅以后得到硅锭,然后切割成完美的圆柱体,一般来说,晶圆切得越薄越大,相同量的硅材料能够制造的cpu成品就越多。

    这之后是蚀刻过程,卫宫必须得借助电子显微镜的帮助,并且铸剑系统全负荷运转,才能够进行稳定的操作。

    卫宫还从来没有尝试过这样高难度的挑战,直觉得全身血液都沸腾起来。

    在崔潇潇看来,卫宫一动不动坐在那里,已经长达好几个小时。

    而他加工台上的晶圆正在慢慢塑形变化……

    这是个什么样让人窒息的操作……

    “月之镜面·开启!”

    系统在他的面前投影出虚无的镜面,然后卫宫抬起头来,以系统的天眼在图纸上扫描起来——

    “复制·原之天象!影射之术·开启。”卫宫双手在虚空中拉开,铸剑师系统自动将图纸影像完美提取抽象,然后通过月之镜完美地缩小放射到下面的晶圆。

    “光法·剑刻,开始……”

    ……

    崔潇潇惊讶得下巴都要掉下来,她原本想的是,通过大图纸先进行一版大电路模板的制造,然后再通过投影将其进行缩小层的遮罩蚀刻。

    没有想到卫宫居然直接上手……

    蚀刻使用的是波长很短的紫外光并配合很大的镜面,通过原子对硅晶面的轰击而做成。

    在崔潇潇的了解中,蚀刻的单位越小越好,在22世纪,这个单位一度缩小到只有0.1nm。

    在蚀刻完成后,为加工新的一层电路,再次生长硅氧化物,然后沉积一层多晶硅,涂敷光阻物质,重复影印、蚀刻过程,得到含多晶硅和硅氧化物的沟槽结构。重复多遍,形成一个3d的结构,这才是最终的cpu的核心。

    总体来说一颗高质量的cpu取决于三点:晶圆切片,越大越薄越好,蚀刻单位越小越好,层数越薄越多越好。

    ……
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